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반도체 공정 2 산화 공정 (Oxidation Process) 반도체 제조는 복잡하고 정교한 공정의 연속체로 이루어져 있으며, 이러한 공정 중 하나가 "산화 공정" (Oxidation Process)입니다. 산화 공정은 반도체 웨이퍼의 표면에 산화막을 형성하는 프로세스로, 반도체 소자의 실리콘 웨이퍼에 산소를 추가하여 산화막을 형성합니다. 이 글에서는 산화 공정의 중요성과 원리, 그리고 산업에 미치는 영향에 대해 자세히 알아보겠습니다. 산화 공정의 역할과 중요성 산화 공정은 반도체 제조 공정의 핵심 중 하나로, 반도체 소자의 실리콘 웨이퍼 표면에 산소와 함께 산화물을 형성합니다. 이 과정은 반도체 소자의 특성을 개선하고 다양한 용도로 사용되는 반도체 디바이스의 제조를 가능하게 합니다. 산화 공정의 주요 역할은 다음과 같습니다. 이산화규소(옥사이드, Oxide) 형성.. 2023. 10. 30.
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